高真空蒸發(fā)鍍膜儀采用鎢絲籃作為蒸發(fā)源，蒸發(fā)源上覆蓋有高純氧化鋁坩堝，樣品臺與蒸發(fā)源之間的距離可調(diào)。該儀器具有高精度的溫度控制系統(tǒng)，并采用循環(huán)加熱的方法來穩(wěn)定地蒸發(fā)金屬和某些有機物質(zhì)。高純度石英腔用作真空腔，涂層過程*可見。該儀器配有雙極旋轉(zhuǎn)葉片真空泵，可以快速達到1.0E-1Pa的真空度，可以滿足大多數(shù)蒸發(fā)鍍膜實驗所需的真空環(huán)境。它適用于大多數(shù)金屬和某些有機材料薄膜的蒸發(fā)和涂層，結(jié)構(gòu)緊湊，體積小巧，是一種經(jīng)濟高效的實驗室鍍膜設(shè)備。

　　1、電流和電壓檢測器以及先進的反饋控制技術(shù)使鍍碳過程穩(wěn)定，高效。

　　2、脈沖和連續(xù)模式可以隨意切換。

　　3、提供“手動”和“自動”兩種模式。在“手動”模式下，可以調(diào)節(jié)電壓和時間旋鈕，以控制碳電鍍過程。在“自動”模式下，客戶只需要事先設(shè)置程序，碳鍍層儀器將*按照您的指示執(zhí)行。

　　高真空蒸發(fā)鍍膜儀真空鍍膜是將固體材料放置在真空室內(nèi)的方法。在真空條件下，將固體材料加熱以蒸發(fā)，并且蒸發(fā)的原子或分子可以在容器壁上自由散布。當將一些經(jīng)過處理的基板材料放入其中時，蒸發(fā)的原子或分子將被吸附在基板上并逐漸形成薄膜。真空鍍膜有兩種方法，一種是蒸發(fā)，另一種是濺射。用于制造薄膜的材料在真空中加熱和蒸發(fā)，以將其沉積在合適的表面上。

　　選擇高真空蒸發(fā)鍍膜儀的蒸發(fā)源的原理為：

　　1、具有良好的熱穩(wěn)定性，且無化學活性。當達到蒸發(fā)溫度時，加熱器本身的蒸氣壓必須足夠低。

　　2、蒸發(fā)源的熔點高于被蒸發(fā)物質(zhì)的蒸發(fā)溫度。加熱器必須具有足夠的熱容量。

　　3、蒸發(fā)材料和蒸發(fā)源材料的相互熔化必須非常低，并且不易形成合金。

　　4、用于螺旋形蒸發(fā)源的材料需要與蒸發(fā)材料具有良好的滲透性并且具有大的表面張力。

　　5、當不易制成細絲時，或當蒸發(fā)材料與細絲蒸發(fā)源之間的表面張力較小時，可以使用船形蒸發(fā)源。