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金屬靶材定做前需要了解的產(chǎn)品特性

更新時間:2024-07-22      點擊次數(shù):415
  金屬靶材是一種在物理氣相沉積(PVD)、化學氣相沉積(CVD)等薄膜沉積技術中作為鍍膜材料源的金屬或金屬合金塊。它們通常由單一金屬元素或多種金屬元素按照一定比例合成,有時也包含非金屬成分,以提供特定的物理、化學性能,滿足多樣化的應用需求。
 

金屬靶材

 

  主要分為以下幾類:
  1、純金屬靶材:由單一金屬元素構成,如銅(Cu)、鋁(Al)、金(Au)等,特點是高純度,能夠滿足特定高科技領域的要求。
  2、合金靶材:由兩種或兩種以上的金屬元素合成,例如銅銦鎵硒(CIGS)合金靶材,用于薄膜太陽能電池的生產(chǎn)。
  3、復合金屬靶材:由金屬與非金屬或多種金屬和非金屬復合而成,這類靶材在特定功能性薄膜的制備中具有重要應用。
 
  金屬靶材的特性:
  金屬靶材的主要特性包括純度、密度、粒度分布等。純度是衡量金屬靶材質量的首要標準,通常要求99.9%以上,對于某些高_端應用領域,如半導體制造,甚至需要達到99.999%的超高純度。高純度能夠確保薄膜的均一性和穩(wěn)定性,減少雜質的干擾。靶材的密度應盡可能接近理論密度,這有助于提高濺射率和薄膜的均勻性。均勻的粒度分布有助于提高濺射過程的穩(wěn)定性和薄膜的均勻性。
 
  應用領域:
  金屬靶材在微電子和半導體制造領域主要用于薄膜沉積技術,包括濺射鍍膜和蒸發(fā)鍍膜,以形成電路板上的導電路徑、電阻層、絕緣層等關鍵組成部分。在光伏產(chǎn)業(yè)中,金屬靶材用于形成電池的導電層和反射層,這些層對提高太陽能電池的光電轉換效率至關重要。此外,金屬靶材還被廣泛應用于醫(yī)療設備、航空航天、汽車制造等領域,用于制造各種功能性涂層。

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