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Se-KTQ-150D是一款雙刮刀的可調(diào)制膜器，由于有兩個刮刀所以涂覆效果會更加均勻。操作者可通過千分尺來調(diào)節(jié)刮刀與所涂覆平面之間的間隙，此工具特別適合實驗室制作電池電極，陶瓷膜前期的生瓷帶及各種薄膜。

VTC-16-SM是一款桌面式等離子磁控濺射鍍膜儀，包含一個2英寸水冷靶頭和可旋轉樣品臺，外形小巧，性價比高，是制作各種金屬薄膜理想的鍍膜設備，可選配各種金屬靶材和真空泵。

PTL-SC-6是一款自動連續(xù)離子層吸收反應（SIAR）制膜系統(tǒng)，與手動操作相比，避免了實驗中的人為誤差，因為SIAR制膜法需多次對樣品進行重復提拉，所以手動很難控制其提拉的重復性。此款設備采用自動化控制，客戶可設置提拉速度、循環(huán)次數(shù)和時間。 PTL-SC-6擁有6個可程序設置的樣品臺，可設置浸漬速度、浸漬時間、提取速度，干燥時間以及加熱溫度（Z高溫度可達到80℃）。此款設備專門這對于

OTF-1200X-4-VTQ是立式可開啟真空管式淬火爐，石英管直徑100mm，配有一個密封的液體容器用于樣品淬火，溫度從Z高1200度到冰水或油，可用于研究材料相轉變和微結構性能。

OTF-1500X-VHP4是一款真空熱壓機，可對材料在真空（或氣氛保護）及高溫的環(huán)境下進行加壓，如把粉末壓成塊狀，或將多層晶片壓合在一起（擴散實驗）。此款儀器Z高溫度可達到1500℃，在此溫度下可對樣品施加的壓力為5T。儀器爐體設計為開啟式，爐管采用美國進口的莫來石管，模具為石墨模具，加壓裝置為一20T的電動壓機。爐子Z高溫度可以達到1500℃，可設置30段升降溫程序。

OTF-1200X-S-DVD是一款靠磁鐵推動坩堝移動的管式爐。其爐管直徑為50mm,Z高工作溫度為1200℃。本公司設計此款管式爐主要是為了在各種氣氛環(huán)境下用蒸發(fā)性沉積方法（DVD）來制取2維薄膜，或對材料進行快速熱處理。