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濺射沉膜技術是以一定能量的粒子(離子或中性原子、分子)轟擊固體表面，使固體近表面的原子或分子獲得足夠大的能量而最終逸出固體表面的工藝。濺射只能在一定的真空狀態(tài)下進行。濺射工藝主要用于濺射刻蝕和薄膜沉積兩個方面。濺射刻蝕時，被刻蝕的材料置于靶極位置，受氬離子的轟擊進行刻蝕。刻蝕速率與靶極材料的濺射產額、離子流密度和濺射室的真空度等因素有關。濺射刻蝕時，應盡可能從濺射室中除去濺出的靶極原子。常用的方法是引入反應氣體，使之與濺出的靶極原子反應生成揮發(fā)性氣體，通過真空系統(tǒng)從濺射室中排...

雙溫區(qū)管式爐集成了控制系統(tǒng)和爐膛，爐襯采用真空成型的高純氧化鋁聚輕材料，采用硅碳棒作為加熱元件，均勻分布在爐管兩側，溫度場均勻可靠。鎳基合金材料制成的金屬爐管配有CF法蘭密封形式和金屬紫銅密封圈，提高了設備??的工作溫度，可在一定的高壓條件下實現(xiàn)實驗。工件圖案在管內加熱，加熱元件平行于爐管，均勻分布在爐管外，有效保證了溫度場的均勻性。1、模糊PID控制和自整定調節(jié)功能。2、智能30段可編程控制。3、具有超溫、斷線報警功能。4、溫控精度：±1℃。5、K型熱電偶。6...

碳化硅晶碇是運用金剛石線切割機切割成晶片的。金剛石線切割機廣泛用于切割各種金屬和非金屬復合材料，特別適用于切割高硬度、高價值、易破碎的各種脆性晶體。與金剛石刀具一樣，金剛石線并不是簡單的一條金剛石。金剛石線是在高碳鋼絲的基礎上進行一定的處理，由此在表面形成金剛石鋸齒?，F(xiàn)在主流的還是引入金剛石顆粒，不是直接表面合成金剛石。通過表面處理方法的不同，金剛線有如下四種：電鍍金剛線：通過電鍍在高碳鋼絲上固定Ni、金剛石顆粒；樹脂金剛線：通過加熱酚醛類樹脂及添加劑在高碳鋼絲上固定金剛石顆...

高真空蒸發(fā)鍍膜儀采用鎢絲籃作為蒸發(fā)源，蒸發(fā)源上覆蓋有高純氧化鋁坩堝，樣品臺與蒸發(fā)源之間的距離可調。該儀器具有高精度的溫度控制系統(tǒng)，并采用循環(huán)加熱的方法來穩(wěn)定地蒸發(fā)金屬和某些有機物質。高純度石英腔用作真空腔，涂層過程*可見。該儀器配有雙極旋轉葉片真空泵，可以快速達到1.0E-1Pa的真空度，可以滿足大多數(shù)蒸發(fā)鍍膜實驗所需的真空環(huán)境。它適用于大多數(shù)金屬和某些有機材料薄膜的蒸發(fā)和涂層，結構緊湊，體積小巧，是一種經(jīng)濟高效的實驗室鍍膜設備。1、電流和電壓檢測器以及先進的反饋控制技術使鍍...

輥壓機采用垂直管道進料，屬于流動性料床。物料循環(huán)擠壓處理過程中，雙輥邊緣物料不易受限、易產生側漏。在輥壓機推廣應用初期，由于使用斜插板控制入機物料量，料床受限程度較差，進料比例調控不夠靈敏。MSK-MR100DC是一款可通過UL/CSA認證的電動輥壓機，此設備軋輥尺寸為：Φ100mm×100mm，采用的是可變速24VDC電器驅動，所以可在Ar氣環(huán)境中使用。本軋機特別適合對電池極片進行輥軋，常常用于鋰離子電池和鈉離子電池的制備。軋輥參數(shù)：1.兩軋輥采用優(yōu)質碳素鋼制作，并...

雙溫區(qū)管式爐可放置在工作臺上，以適合員工的工作高度。工作臺的有效負載應大于200kg。在安裝過程中，插入爐內的深度為25mm，并且將N梯度補償線連接到溫度控制儀器。注意：應該先安裝石英管，然后再安裝熱電偶。熱電偶不應與石英管接觸。電爐和控制柜整體接地，接地線的接地電阻應小于4Ω。雙溫區(qū)管式爐采用了新型的高性能，高節(jié)能的電爐，主要用于大學，研究院所，工礦企業(yè)等的實驗和小批量生產。具有安全可靠，操作簡單，控溫精度高，保溫效果好，溫度范圍大，爐溫均勻性高的特點。，多個溫度區(qū)域，可選...

1111MicrosoftInternetExplorer402DocumentNotSpecified7.8磅Normal0涂膜機的配置目的是為了刮膜提供一致的重復性以及超低膜厚涂布。它以其恒溫、恒壓、恒速和針對薄膜底材提供的真空吸附功能為越來越多的用戶所關注。作為一個涂膜平臺，涂膜機本身并不控制膜厚，膜厚的控制是由搭配在涂膜機上的線棒或者制備器決定的。也因此，線棒及制備器的精度決定性的影響著涂膜的膜厚預期。但國內涂膜機配套的線棒往往為了突出“性價比”而采用低價涂膜器，則就...